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真空鍍色設計要考慮哪些因素？
1.真空電鍍所使用設備通常較為高昂，加上工藝流程復雜，對環(huán)境要求高；為此真空電鍍單價比水電鍍昂貴。
2.真空電鍍受設備內(nèi)真空環(huán)境體積影響，因此對靶材尺寸有一定的要求，不適合大靶材，常見的真空腔室內(nèi)靶材應小于1.2 * 1.1m（3.94 * 3.3ft），3D工件應小于1.2 * 0.5m（3.94 * 1.6ft）
3.真空電鍍的工件表面須保持干燥、光滑，否則會影響處理效果。
4.真空電鍍可鍍色彩豐富，可以鍍7色，比水電鍍的顏色要豐富，可達到陽極鋁、亮鉻、金、銀、銅和炮銅（一種銅錫合金）等豐富多彩的效果。水電鍍一般只有鍍銅（紅色），鍍鎳（偏黃的銀色），鍍金，鍍銀，鍍槍（黑色，有深黑，淺黑等），鍍鉻（銀白色）等單調(diào)色彩。
5.真空電鍍是常見的金屬表面處理技術。
真空鍍色工藝流程復雜，非常依賴人工操作。工件（靶材）需要噴涂、裝卸、再噴涂，并且也取決于工件的復雜度和數(shù)量，所以人力成本很高。
環(huán)境影響
真空環(huán)境下輻射小、環(huán)境污染小，真空電鍍現(xiàn)為各行業(yè)中廣泛應用。
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